超纯水是为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水 ， 其电阻率大于18 MΩ.cm ， 或接近18.3MΩ.cm(25℃) 。 那么关于电子行业超纯水你又知道哪些呢？下面我们一起看看吧 。
科普一：电子行业为什么要用到超纯水设备？
超纯水在以电路板为主的电子元器件生产中的作用越来越重要 ， 超纯水的质量已成为影响电路板、电子元器件产品质量、生产产量和生产成本的重要因素之一 。 在电子元器件的生产中 ， 超纯水主要用于清洗水和用于配制各种溶液、浆液 ， 不同的电子元器件在生产中对纯水和水质的要求是不同的 。
在晶体管和集成电路的生产中 ， 超纯水主要用于清洗硅片 ， 少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等 。 集成电路生产中80%的工序都需要用高纯水来清洗硅片 ， 水质的好坏与集成电路产品的质量和生产量有很大关系 。 水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜产生耐压 ， 重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结电压降低 ， III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性变差 ， V族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性变差 。 会使P型半导体特性变坏 ， 水中的细菌经过高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片的局部区域变成N型硅而导致器件性能变坏 ， 水中的微粒（包括细菌）如吸附在硅片表面 ， 就会造成电路短路或特性变差 。
电子超纯水设备（www.ediwater.cn）是为了保证电子产品的质量安全 ， 促进电子行业的健康运行 ， 电子超纯水设备用于集成电路生产中高纯水清洗硅片、半导体材料、晶圆材料的生产、加工 。
科普二：电子行业超纯水的等级
目前 ， 我国电子工业部把电子级水质技术分为四个行业等级 ， 分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、12MΩ.cm、0.5MΩ.cm ， 以区分不同水质 。 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示器、高精度电路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模的集成电路都需要使用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品 。 集成电路的集成度越高 ， 线宽越窄 ， 对水质的要求就越高 。

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科普三：电子行业超纯水制取工艺
1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式 ， 其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式 ， 其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式 ， 其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
4、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备及抛光混床的组合方式 ， 其基本工艺流程为：预处理过滤器→保安(精密)过滤器→RO反渗透→EDI→氮封水箱→抛光混床→新型循环管道→用水点（莱特莱德新工艺）
科普四：超纯水制备工艺特点
第1种采用离子交换树脂其优点在于初投资少 ， 占用的地方少 ， 但缺点就是需要经常进行离子再生 ， 耗费大量酸碱 ， 而且对环境有一定的破坏 。
第2种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备 ， 其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高 ， 但离子设备再生周期相对要长 ， 耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多 。 但对环境还是有一定的破坏性 。