光刻机是什么光刻机（MaskAligner) 又名：掩模对准曝光机 ， 曝光系统 ， 光刻系统等 。 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序 。
是用光刻机吗？和芯片一样制造？【光刻机为什么中国做不出来 光刻机cpu】 MEMS对消费电子产品的终极影响不仅包括成本的降低、而且也包括在不牺牲性能的情况下实现尺寸和重量的减小 。 事实上 ， 大多数消费类电子产品所用MEMS元件的性能比已经出现的同类技术大有提高 。 虽然MEMS过去只限于汽车、工业和医疗应用 ， 但据调查公司估计：“MEMS消费类电子产品的销售额将在2005年前达到15亿美元” 。