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美光作为DRAM行业的龙头 ， 但是在工艺进度上一直比较稳健 ， 称得上是精打细算 ， 10nm工艺上面更是玩出花样 ， 其中1xnm已经十分成熟 ， 1ynm目前正在扩充产能 ， 生产对象有12Gb LPDDR4X、16Gb DDR4颗粒等 。之前美光已经宣布将在广岛工厂投产1znm ， 并在2020财年(今年9月开始)投入量产 ， 据称会主要用来生产16Gb LPDDR5、DDR5颗粒 。按照DRAM行业的惯例 ， 接下来将是突破10nm级工艺 ， 但是工艺进入个位数时代是在太难 ， 因而美光准备了至少三种新的10nm级工艺：1αnm、1βnm、1γnm 。
至此 ， 美光总计有六种10nm级工艺 ， 一个比一个更逼近10nm ， 不过具体细节美光暂未披露 ， 只是说会在1βnm、1γnm阶段会用上沉浸式四重曝光技术 ， 比现在的双重曝光、三重曝光更复杂 。同时 ， 美光还在评估EUV极紫外光刻技术 ， 预计届时只需双重曝光 ， 可大大降低工艺复杂度 ， 但具体什么时候、在哪代工艺上使用 ， 美光还没有做出决定 。此外 ， 美光透露 ， 还会用这种颗粒制造单条64GB容量的RDIMM服务器内存 。
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